특허청, G5 국제공조 강화로 심사기간 단축한다

제4회 선진 5개 특허청장회의에서 심사결과 활용 확대 합의
한-미간 국제특허심사하이웨이 시행 합의

6.23(목)∼24(금) 양일간 일본 동경에서 열린 선진 5개 특허청장회의에서 G5 특허청(한·미·일·중·유럽)은 특허심사기간을 단축하기 위하여 국가간 심사결과 활용을 확대하기로 합의하였다.

* 선진 5개 특허청장회의(IP5 특허청장회의): 세계 특허출원의 76%(2008년)를 차지하는 한국, 미국, 유럽, 일본, 중국 특허청이 참가하는 다자간 회의로 매년 1회 회의를 개최 ** 제4회 선진 5개 특허청장회의에는 이수원 특허청장, 베누와 바띠스텔리(Benoit Battistelli) 유럽 특허청장, 요시유키 이와이(Yoshiyuki IWAI) 일본 특허청장, 티안 리푸(TIAN Lipu) 중국 특허청장 및 프란시스 거리(Fransis Gurry) 세계지식재산기구(WIPO) 사무총장, 테레사 레이(Teresa S. Rea) 미국 특허청 차장이 참석

첫날 회의에서 선진 5개 특허청은 각 특허청의 상이한 특허분류, 정보화시스템, 심사실무 등 특허심사에 필수적인 인프라를 통일 ... 전체내용보기 CLICK

[연합뉴스 2011-06-23]