한-중-일 3국간 특허출원 쉬워진다
2011. 12. 19. 13:27ㆍ지적재산권 보호활동뉴스
내년 특허하이웨이 체결 합의… 처리기간 최대 1년 단축
내년부터 한국과 중국, 일본 등 3국간 국제특허심사하이웨이(PCT-PPH)가 체결돼 특허출원이 한결 쉬워질 전망이다. 특허청은 15일 경주에서 `제23차 한ㆍ일 특허청장 회담'과 `제11차 한ㆍ중ㆍ일 특허청장 회담'을 가졌다. 이날 열린 한ㆍ일 특허청장 회담에서 양국 특허청장은 한ㆍ일간 국제특허심사하이웨이 시행에 대해 합의해 이르면 내년 상반기 중으로 양해각서 체결과 동시에 제도가 시행될 수 있도록 추진키로 했다. PCT-PPH는 국제출원의 국제단계에서 특허가 가능하다는 판단을 받은 경우, 국내 단계에서 우선 심사해 주는 제도를...전체내용보기 CLICK
[디지털타임스 2011-12-15]
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