특허·상표·디자인 출원이 쉬워진다
2009. 5. 15. 08:54ㆍ지적재산권 보호활동뉴스
내년부터 한·미·일·유럽 간에 공통출원서식 도입
특허·상표·디자인 출원인들의 불편을 덜어주기 위한 제도개혁이 추진된다. 내년부터 한·미·일·유럽 간에 공통으로 적용되는 특허출원서식이 도입되며, 상표권 갱신도 쉬워진다. 오는 7월부터는 디자인 출원제도가 고객중심으로 바뀐다.
내년부터 특허출원인들은 기재사항의 변경 없이 우리나라 특허청에 제출한 특허출원 명세서를 해당 언어로 그대로 번역하여 미·일·유럽 특허청에 출원할 수 ... 전체내용보기 CLICK
[연합뉴스 2009-05-08]
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